产品介绍 PRODUCT INTRODUCTION
● 用途Purpose
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
● 特点Characteristic
设备结构紧凑,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
单靶溅射/多靶依次溅射或共同溅射,兼容DC/MF/RF溅射等功能;
可制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、耐热合金膜、硬质膜、耐席蚀摸、透明导电膜。
● 应用Application

实验室磁控溅射镀膜机
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
设备结构紧凑,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
单靶溅射/多靶依次溅射或共同溅射,兼容DC/MF/RF溅射等功能;
可制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、耐热合金膜、硬质膜、耐席蚀摸、透明导电膜。